Научно-исследовательский институт молекулярной электроники (НИИМЭ) приступил к разработке фоторезистов — литографических материалов, которые применяются в электронной промышленности. Компания «НИИМЭ» планирует наладить производство отечественных фоторезистов для электронной промышленности. Такая продукция будет востребована при выпуске интегральных микросхем, их используют в различной современной технике. Потребителями продукции, разработанной компанией, станут российские производители микроэлектроники.
Фоторезист — это светочувствительный полимерный материал, который наносят на кремниевую пластину в ходе процесса фотолитографии. С его помощью на поверхности обрабатываемой детали формируются выделенные участки — «окна» — для дальнейшего травления или легирования поверхности. Эта технология является основной в производстве интегральных микросхем.
Компания проведет теоретические и экспериментальные работы, разработает документацию технологического процесса, методики измерений параметров материалов и метрологической экспертизы. Как отметил заместитель руководителя приоритетного технологического направления «Электронные технологии» компании, член-корреспондент РАН Евгений Горнев, у института накоплен большой опыт исследований в области высокочистых материалов. В консорциуме с институтами Российской академии наук по программе импортозамещения резидент ОЭЗ Москвы занимается разработками и анализом высокочистых химических реактивов для отечественной промышленности. За последние пять лет были сформированы технологические цепочки исполнителей из научных организаций и организовано проведение работ по созданию задела для разработки материалов для фотолитографии, а в 2021 году создана единственная в России физико-химическая аналитическая лаборатория мирового уровня для проведения исследований в области контроля качества технологических сред. Сегодня лаборатория участвует во всех опытно-конструкторских работах по созданию химреактивов требуемого качества и методик анализа соответствия качества высокочистых материалов.